A capacidade de reduzir as dimensões de característica de transistores baseados em silício permitiu que a indústria de semicondutores melhorar o desempenho, aumentar a velocidade e reduzir o preço dos circuitos integrados nos últimos 55 anos. Na década de 1960, Gordon Moore previu que a densidade de transistor por um circuito integrado dobraria a cada 18 meses (a lei de Moore). Até agora, a indústria de semicondutores tem sido capaz de seguir a lei de Moore, reforçando os atributos de resolução das ferramentas de fotolitografia. A ferramenta de fotolitografia é um sistema óptico que projeta a imagem de uma máscara (representando uma camada de circuito integrado) para uma bolacha que foi revestida com um material sensível à luz (resistir). Após a exposição, a resistir é desenvolvido para revelar um padrão que é transferido para a superfície do wafer através de técnicas de gravura. Os analistas semicondutor teorizaram que, até 2010, ferramentas de fotolitos com fontes de luz 157 nm vão abordar seu limite de resolução teórico (120 nm).